Le design High Vacuum Sputtering System Système de pulvérisation cathodique sous vide par Yang Yang est un lauréat très estimé du prestigieux 2021 A' Design Award de Bronze dans la catégorie Machinerie.
BronzeMachinerie· 2021
High Vacuum Sputtering System Système de pulvérisation cathodique sous vide
par Yang Yang
Client : Huaiyin Institute of Technology & Liaoning Petrochemical University
Lauréat du A' Design Award de Bronze dans la catégorie Machinerie
Lauréat Vérifié
Vérifier le statut du prix pour le design #115788Le Design
À propos de High Vacuum Sputtering System Système de pulvérisation cathodique sous vide
Le système de pulvérisation cathodique à vide poussé est une machine qui dépose des couches minces métalliques et diélectriques sur des substrats allant jusqu'à 300 millimètres. Le système utilise des sources de pulvérisation magnétron alimentées par radiofréquence, courant continu ou courant continu pulsé, fonctionnant en mode simple ou en mode co-déposition. Une structure modulaire permet une installation, un transport et une maintenance simples. Le carter est réalisé en acier laminé à froid, avec formage de tôle et finition par pulvérisation, un châssis intérieur en aluminium et un capot en acrylique gris translucide. L'écran de commande respecte les principes ergonomiques.
La Reconnaissance
À propos du A' Design Award de Bronze
High Vacuum Sputtering System Système de pulvérisation cathodique sous vide est lauréat de l'A' Design Award de Bronze, une reconnaissance hautement prestigieuse décernée à des designs remarquables qui se distinguent par leur créativité, leur ingéniosité et leur sagacité. Les lauréats Bronze sont des artefacts amplement habiles et d'une créativité frappante, qui authentifient la vaste expérience, l'imagination et l'ingéniosité de leurs concepteurs. High Vacuum Sputtering System Système de pulvérisation cathodique sous vide est censé être un objet très estimé, admiré et chéri, remarquablement professionnel et innovant. Ce design lauréat de l'A' Design Award de Bronze intègre les meilleures pratiques de l'art, de la science, du design et de la technologie, et est excellent par son souci du détail. High Vacuum Sputtering System Système de pulvérisation cathodique sous vide satisfait admirablement les besoins, touche les désirs, charme les sentiments et attire la curiosité.
Les coulisses du design
Dossier de presse
Crédits, membres de l'équipe et détails techniques fournis par le designer.
- Propriétés Uniques
- This Ultra High Vacuum Sputtering System subverts the traditional model. On the basis of the functional machine, it integrates many factors for industrial design according to the requirements of the users and the environments. This system mainly adopts modular combination mode, which is convenient for combined installation, transportation and maintenance.The overall shape design is neat and beautiful, the surface treatment is fine, the fuselage is matched with the translucent acrylic mask in gray tone, giving people a simple, modern and beautiful feeling. Ergonomics and interactions are reflected in the design of the control screen.
- Dimensions & Emballage
- Width 2800mm x Depth 1200mm x Height 1500mm
- Mots-Clés
- Vacuum magnetron sputtering, UHV SPUTTER，Large equipment
- Technologie de Production
- The main material of the shell is high quality cold plate, which uses sheet metal forming process and environmental protection spray technology, internal skeleton for aluminum, mask for acrylic material. The fuselage design adopts screen printing process.
- Défi de Conception
- The most difficult part of this design exercise is the matching relationship between the whole system, the operating mode, ergonomic design, and the interaction design in the control system.
- Recherche
- On the market，this kind of products are mainly functional machines, lack of ergonomic design. The surface treatment and texture of material are rough, the modelling lack modern design sense. The Ultra High Voltage Sputter System is a school-enterprise cooperation project completed by designers and engineers jointly. This is an improved product design based on the university's scientific research background and technical conditions of the update and improvement.
- Inspiration
- The Ultra High Vacuum Sputtering System is used in world-famous research laboratories of superconducting and quantum devices. The market is dominated by functional machines with bare devices and circuits, which don’t match the modern and intelligent test environment. Therefore, the integrated design of the system should be carried out to ensure the overall beautiful appearance design, in line with the ergonomic control design and the innovative design of human-computer interaction.
- Durée du Projet
- The project began in January 2020 in Huai 'an, Jiangsu Province, China, and ended in November 2020 in Huai 'an, Jiangsu Province, China.
- Flux Opérationnel
- Ultra High Vacuum Sputtering System can deposit metal and dielectric thin films on substrates up to 300mm. Magnetron sputtering sources using RF, DC, or pulsed DC power sources can operate in single mode or co-deposition mode to produce films that meet a wide range of requirements.
- Membres de l'Équipe
- Yang Yang
Lei Wang
Menghua Wang
Chi Rui
Yu Jiang
Shuchang Cui
Zhe Li - Crédits Images
- Image #1: Photographer Yang Yang, Variations, 2020.
Image #2: Photographer Lei Wang, Variations, 2020.
Image #3: Photographer Menghua Wang, Variations, 2020.
Image #4: Photographer Lei Wang, Variations, 2020.
Image #5: Photographer Lei Wang, Variations, 2020.
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