Yang Yang ᱨᱮᱱᱟᱜ High Vacuum Sputtering System ভেকুয়াম স্পুটারিং সিস্টেম ᱫᱚ ᱢᱮᱥᱤᱱᱟᱨᱤ ᱯᱨᱚᱛᱤᱡᱚᱜᱤᱛᱟ ᱵᱷᱟᱜ ᱨᱮ 2021 A' Design Award ᱠᱟᱥᱟ ᱯᱩᱨᱚᱥᱠᱟᱨ ᱨᱮᱱᱟᱜ ᱟᱹᱰᱤ ᱢᱟᱱ ᱟᱠᱟᱱ ᱡᱤᱛᱠᱟᱨ ᱠᱟᱱᱟ᱾
ᱠᱟᱥᱟᱢᱮᱥᱤᱱᱟᱨᱤ· 2021
High Vacuum Sputtering System ভেকুয়াম স্পুটারিং সিস্টেম
Yang Yang ᱞᱮᱠᱟᱛᱮ
ᱜᱟᱦᱟᱠ: Huaiyin Institute of Technology & Liaoning Petrochemical University
ᱢᱮᱥᱤᱱᱟᱨᱤ ᱵᱷᱟᱜ ᱨᱮ A' Design Award ᱠᱟᱥᱟ ᱯᱩᱨᱚᱥᱠᱟᱨ ᱡᱤᱛᱠᱟᱨ
ᱡᱟᱸᱪ ᱟᱠᱟᱱ ᱮᱣᱟᱨᱰ ᱡᱤᱛᱠᱟᱨ
#115788 ᱞᱟᱜᱤᱫ ᱮᱣᱟᱨᱰ ᱦᱟᱞᱚᱛ ᱡᱟᱸᱪᱰᱤᱡᱟᱭᱤᱱ
High Vacuum Sputtering System ভেকুয়াম স্পুটারিং সিস্টেম ᱵᱟᱵᱚᱛ ᱛᱮ
হাই ভেকুয়াম স্পুটারিং সিস্টেম বাবঅ' এনা একটা মেসিন লেকা যা 300 মিলিমিটার হদ তক সাবস্ট্রেট রেয়াঃ মেটাল আর ডাইইলেকট্রিক পातলा ফিল্ম জमा করবঅ। ইলে সিস্টেম রেডিও ফ্রিকোয়েন্সি, ডাইরেক্ট কারেন্ট বা পালس্ড ডাইরেক্ট কারেন্ট রে চালানা ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং সোর্স রে ব্যবহার হয়, যা একক মোড বা কো-ডিপোজিশন মোড রে কাম করা। মডুলার গঠন সহজ ইনস্টলেশন, পরিবহন आर মেন্টেনেন্স রে সহায়তা করা। হাউসিং কোল্ড রोल্ড ইস্পাত রে তৈয়ার হয়, যা শীট মেটাল ফর্মিং আর স্প্রে ফিনিশিং रे বনানা, এলুমিনিয়াম রেয়াঃ ভিতরি ফ্রেম আর ট্রান্সলুসেন্ট গ্রে এক্রিলিক কভার সহ। কন্ট্রোল স্ক্রিন এর্গোনমিক নীতি অনুসরণ করা।
ᱢᱟᱱᱟᱱ
A' Design Award ᱠᱟᱥᱟ ᱯᱩᱨᱚᱥᱠᱟᱨ ᱵᱟᱵᱚᱛ ᱛᱮ
High Vacuum Sputtering System ভেকুয়াম স্পুটারিং সিস্টেম ᱫᱚ A' Design Award ᱠᱟᱥᱟ ᱯᱩᱨᱚᱥᱠᱟᱨ ᱧᱟᱢ ᱟᱠᱟᱱᱟ, ᱱᱚᱶᱟ ᱫᱚ ᱱᱟᱣᱟ ᱵᱷᱟᱵᱱᱟ ᱛᱮ ᱵᱷᱟᱞᱟᱭ ᱰᱤᱡᱟᱭᱤᱱ ᱠᱚ ᱞᱟᱹᱜᱤᱫ ᱮᱢ ᱟᱠᱟᱱ ᱥᱚᱢᱟᱱ ᱠᱟᱱᱟ᱾ ᱱᱚᱶᱟ ᱠᱚ ᱫᱚ ᱰᱤᱡᱟᱭᱤᱱᱟᱨ ᱠᱚ ᱨᱮᱭᱟᱜ ᱵᱷᱟᱵᱱᱟ ᱟᱨ ᱵᱷᱟᱞᱟᱭ ᱠᱟᱢᱤ ᱡᱷᱟᱞᱠᱟᱣ ᱠᱚ᱾ High Vacuum Sputtering System ভেকুয়াম স্পুটারিং সিস্টেম ᱫᱚ ᱠᱚᱞᱟ, ᱣᱤᱜᱭᱟᱱ, ᱰᱤᱡᱟᱭᱤᱱ ᱟᱨ ᱴᱮᱠᱱᱚᱞᱚᱡᱤ ᱨᱮᱭᱟᱜ ᱥᱤᱢᱟ ᱵᱟᱲᱦᱟᱣ ᱟᱨ ᱫᱩᱱᱤᱭᱟ ᱵᱷᱟᱞᱟᱭ ᱞᱟᱹᱜᱤᱫ ᱜᱚᱲᱚ ᱮᱢ ᱠᱟᱱᱟ᱾
ᱰᱤᱡᱟᱭᱤᱱ ᱯᱤᱪᱷᱟ ᱨᱮ
ᱯᱨᱮᱥ ᱠᱤᱴ
ᱰᱤᱡᱟᱭᱤᱱᱟᱨ ᱧᱮᱞ ᱠᱷᱚᱱ ᱠᱨᱮᱰᱤᱴ, ᱴᱤᱢ ᱥᱫᱚᱥᱭ ᱟᱨ ᱴᱮᱠᱱᱤᱠᱮᱞ ᱵᱤᱵᱚᱨᱚᱬ ᱮᱢ ᱟᱠᱟᱱᱟ᱾
- ᱟᱞᱜᱟ ᱜᱩᱱ ᱠᱚ
- This Ultra High Vacuum Sputtering System subverts the traditional model. On the basis of the functional machine, it integrates many factors for industrial design according to the requirements of the users and the environments. This system mainly adopts modular combination mode, which is convenient for combined installation, transportation and maintenance.The overall shape design is neat and beautiful, the surface treatment is fine, the fuselage is matched with the translucent acrylic mask in gray tone, giving people a simple, modern and beautiful feeling. Ergonomics and interactions are reflected in the design of the control screen.
- ᱢᱟᱯ ᱟᱨ ᱯᱮᱠᱮᱡᱤᱝ
- Width 2800mm x Depth 1200mm x Height 1500mm
- ᱴᱮᱜ ᱠᱚ
- Vacuum magnetron sputtering, UHV SPUTTER，Large equipment
- ᱛᱮᱭᱟᱨ ᱛᱮᱠᱱᱚᱞᱚᱡᱤ
- The main material of the shell is high quality cold plate, which uses sheet metal forming process and environmental protection spray technology, internal skeleton for aluminum, mask for acrylic material. The fuselage design adopts screen printing process.
- ᱰᱤᱡᱟᱭᱱ ᱪᱮᱞᱮᱧ
- The most difficult part of this design exercise is the matching relationship between the whole system, the operating mode, ergonomic design, and the interaction design in the control system.
- ᱜᱚᱵᱮᱥᱚᱱᱟ
- On the market，this kind of products are mainly functional machines, lack of ergonomic design. The surface treatment and texture of material are rough, the modelling lack modern design sense. The Ultra High Voltage Sputter System is a school-enterprise cooperation project completed by designers and engineers jointly. This is an improved product design based on the university's scientific research background and technical conditions of the update and improvement.
- ᱯᱨᱮᱨᱚᱱᱟ
- The Ultra High Vacuum Sputtering System is used in world-famous research laboratories of superconducting and quantum devices. The market is dominated by functional machines with bare devices and circuits, which don’t match the modern and intelligent test environment. Therefore, the integrated design of the system should be carried out to ensure the overall beautiful appearance design, in line with the ergonomic control design and the innovative design of human-computer interaction.
- ᱯᱨᱚᱡᱮᱠᱴ ᱥᱚᱢᱚᱭ
- The project began in January 2020 in Huai 'an, Jiangsu Province, China, and ended in November 2020 in Huai 'an, Jiangsu Province, China.
- ᱠᱟᱹᱢᱤ ᱦᱚᱨ
- Ultra High Vacuum Sputtering System can deposit metal and dielectric thin films on substrates up to 300mm. Magnetron sputtering sources using RF, DC, or pulsed DC power sources can operate in single mode or co-deposition mode to produce films that meet a wide range of requirements.
- ᱴᱤᱢ ᱥᱮᱫᱟᱭ ᱠᱚ
- Yang Yang
Lei Wang
Menghua Wang
Chi Rui
Yu Jiang
Shuchang Cui
Zhe Li - ᱪᱤᱛᱟᱹᱨ ᱥᱟᱹᱦᱟ
- Image #1: Photographer Yang Yang, Variations, 2020.
Image #2: Photographer Lei Wang, Variations, 2020.
Image #3: Photographer Menghua Wang, Variations, 2020.
Image #4: Photographer Lei Wang, Variations, 2020.
Image #5: Photographer Lei Wang, Variations, 2020.
ᱥᱯᱚᱱᱥᱚᱨᱰ
Designers.org ᱠᱷᱚᱱ ᱯᱟᱨᱚᱢ ᱛᱟᱞᱟᱥ
ᱟᱞᱮᱭᱟᱜ ᱵᱤᱜᱽᱭᱟᱯᱚᱱ ᱥᱟᱹᱜᱟᱹᱭ ᱠᱚ ᱠᱷᱚᱱ ᱯᱨᱚᱰᱟᱠᱴ, ᱥᱮᱵᱟ ᱟᱨ ᱢᱚᱠᱟ ᱩᱫᱩᱜ ᱢᱮ᱾
ᱟᱨᱦᱚᱸ ᱠᱷᱚᱡ ᱢᱮ
ᱥᱟᱹᱜᱟᱹᱭ ᱰᱤᱡᱟᱭᱤᱱ ᱠᱚ
ᱢᱤᱫ ᱞᱮᱠᱟ ᱠᱮᱴᱮᱜᱚᱨᱤ ᱠᱷᱚᱱ ᱟᱨᱦᱚᱸ ᱯᱩᱨᱥᱠᱟᱨ ᱧᱟᱢᱟᱠᱟᱱ ᱰᱤᱡᱟᱭᱤᱱ ᱠᱚ ᱧᱮᱞ ᱢᱮ, ᱡᱚᱜᱭᱟᱛᱟ ᱧᱮᱞ ᱛᱮ ᱵᱟᱪᱷᱟᱣ ᱟᱠᱟᱱᱟ᱾
